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半导体废水处理方法(半导体污水处理流程)
标签:     添加时间:2022-10-15 浏览次数:2390

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半导体废水处理方法(半导体污水处理流程)


  半导体行业的迅速发展,有利有弊,为什么这么说呢?电子市场的扩容对于工业、企业发展是一种驱动力,推动了经济社会的发展,但制造行业扩大,加工厂增加,电子半导体废水排量增加,半导体废水并不是随意可以排放的,那么半导体废水处理方法有哪些,半导体污水处理流程是怎样的呢,我们一起来看一下。

  针对电子半导体污水处理方法有很多,生化法、物理法、物化法、化学法等等,都可以根据半导体废水水质情况进行处理,但吸附法、冷冻法、离子交换树脂法、超滤法、电渗析法,在进行废水处理时,相对成本较高,废水去除达标排放率相对比较低。

  电子半导体生产工艺复杂,工艺步骤高达300余步,同时会使用多种化学试剂以及特殊气体,主要生产工序包括:硅片清洗、氧化、扩散、化学气相沉积、光刻、去胶、干法刻蚀、湿法刻蚀、离子注入、金属化镀膜、化学机械抛光等等。

  生产工序不同,所产生的电子半导体生产废水也略有差异,对于产生的电镀废水、含氟废水、重金属废水等,康景辉针对电子半导体废水产生途径以及根据半导体废水的回收利用,选择采用膜回收+蒸发结晶工艺。

  对于半导体生产过程中,其他工序中产生的一些有机废水、冲洗废水,其含盐量或者含重金属物质偏低时,可以考虑采用化学药剂、生化法或者沉淀法等一些简单的处理方式。

  实际上每一种半导体废水处理方法,都有其与众不同的优点,大伙儿需要依据自身的水质情况,挑选更为合适自身的解决办法。



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